Desenvolvimento de revestimentos protetivos por técnicas de plasma

• Processo: 05/03420-4
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2006
• Data de Término da vigência: 29 de fevereiro de 2008
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física
• Pesquisador responsável: Elidiane Cipriano Rangel da Cruz
• Beneficiário: Elidiane Cipriano Rangel da Cruz
• Instituição Sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Assunto(s): Superfície física Filmes finos Rugosidade superficial Carbono amorfo Implantação iônica Tecnologia de plasma Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: A-C:H | Pecvd | Rugosidade | Superfícies e Filmes Finos

Resumo

Carbono amorfo hidrogenado, a-C:H, é um material que possui aplicações em potencial devido às suas propriedades tais como bio e hemocompatibilidade, elevada dureza, baixo coeficiente de atrito, alta resistividade elétrica e transparência óptica. Entretanto, a sua utilização em processos práticos ainda é restrita devido ao descolamento precoce do filme, em virtude dos altos níveis de tensão interna. Vários estudos desenvolvidos nos últimos anos buscam diminuir os níveis de tensão interna para aumentar a durabilidade do material. Tais investigações demonstram entretanto que reduções suaves na tensão interna são acompanhadas por grandes diminuições na dureza. Portanto, a proposta do presente trabalho é a utilização de técnicas híbridas de deposição buscando-se não somente reduzir os níveis de tensão interna como também aumentar a adesão do filme ao substrato. Na etapa inicial do trabalho, esforços serão direcionados para a obtenção de camadas com propriedades mecânicas e tribológicas adequadas, analisando-se não somente as propriedades dos filmes como também dos plasmas. Compostos orgânicos, como o acetileno, o metano e o hexametildisiloxano assim como suas misturas com argônio, nitrogênio e flúor serão utilizados como precursores. Além da composição química, a pressão total dos gases e a potência de excitação da descarga serão variadas. Para agilizar o processo de análise, substratos planos tais como lâminas de vidro de microscópio, silício polido e placas metálicas, serão empregados. Em uma segunda etapa, será avaliado o efeito do processo de implantação iônica e deposição por imersão em plasmas, IIDIP nas propriedades físicas dos filmes resultantes. Neste caso, o processo de deposição será iniciado concomitantemente ao de bombardeamento iônico, produzindo recuo de espécies depositadas para o substrato... (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

RANGEL, ELIDIANE C.; DE SOUZA, EDUARDO S.; DE MORAES, FRANCINE S.; DUEK, ELIANA A. R.; LUCCHESI, CAROLINA; SCHREINER, WIDO H.; DURRANT, STEVEN F.; CRUZ, NILSON C.. Cell Adhesion to Plasma-Coated PVC. SCIENTIFIC WORLD JOURNAL, 2014. (05/03420-4, 11/21345-0)

RANGEL, ELIDIANE C.; DE SOUZA, EDUARDO S.; DE MORAES, FRANCINE S.; DUEK, ELIANA A. R.; LUCCHESI, CAROLINA; SCHREINER, WIDO H.; DURRANT, STEVEN F.; CRUZ, NILSON C.. Cell Adhesion to Plasma-Coated PVC. SCIENTIFIC WORLD JOURNAL, v. N/A, p. 9-pg., 2014-01-01. (11/21345-0, 05/03420-4)