| Processo: | 02/08401-0 |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior |
| Data de Início da vigência: | 20 de outubro de 2002 |
| Data de Término da vigência: | 25 de outubro de 2002 |
| Área do conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos |
| Pesquisador responsável: | Nilton Itiro Morimoto |
| Beneficiário: | Nilton Itiro Morimoto |
| Instituição Sede: | Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Município da Instituição Sede: | São Paulo |
| Assunto(s): | Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Hd-Pecvd | Pecvd | Silicon Oxide | Teos | Tft |
| Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio: |
| Mais itensMenos itens |
| TITULO |
| Matéria(s) publicada(s) em Outras Mídias ( ): |
| Mais itensMenos itens |
| VEICULO: TITULO (DATA) |
| VEICULO: TITULO (DATA) |