Deposição de filmes finos de TiO2 usando tecnologia de plasmas para aplicações em ...
- Auxílios pontuais (curta duração)
| Processo: | 02/08401-0 |
| Linha de fomento: | Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior |
| Vigência: | 20 de outubro de 2002 - 25 de outubro de 2002 |
| Área do conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos |
| Pesquisador responsável: | Nilton Itiro Morimoto |
| Beneficiário: | Nilton Itiro Morimoto |
| Instituição-sede: | Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) |