Development of a cluster tool and analysis of deposition oxide by teos/o2 pecvd.

• Processo: 96/01329-9
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 08 de abril de 1996
• Data de Término da vigência: 12 de abril de 1996
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Nilton Itiro Morimoto
• Beneficiário: Nilton Itiro Morimoto
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 92/03452-1 - Medida de stress em filmes finos aplicados em tecnologia de fabricação de circuitos integrados, AP.TEM
• Assunto(s): Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Óxido de silício
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cluster Tool | Oxido De Silicio | Pecvd | Teos