Magnetic field effects on secondary electrons emitted during ion implantation in vacuum arc plasmas.

• Processo: 04/05808-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 05 de setembro de 2004
• Data de Término da vigência: 10 de setembro de 2004
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Ing Hwie Tan
• Beneficiário: Ing Hwie Tan
• Instituição Sede: Pessoa Física
• Assunto(s): Tratamento de superfícies Plasma Nitretação Implantação iônica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Implantacao Ionica | Nitretacao | Plasmas | Tratamento De Superficies