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Process modeling and fabrication of microlens array in thick photoresist.

Processo: 11/50780-7
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
Data de Início da vigência: 30 de agosto de 2011
Data de Término da vigência: 02 de setembro de 2011
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:Giuseppe Antonio Cirino
Beneficiário:Giuseppe Antonio Cirino
Instituição Sede: Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil
Assunto(s):Sistemas microeletromecânicos 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Fourier Optics | Mems | Microlens Array | Microlithography | Novolak Type Resist | Thick Resist
Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio:
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