Oxygen plasma etching mechanisms of resist.

• Processo: 04/07539-3
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
• Data de Início da vigência: 07 de setembro de 2004
• Data de Término da vigência: 11 de setembro de 2004
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Patrick Bernard Verdonck
• Beneficiário: Patrick Bernard Verdonck
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Microeletrônica Plasma Nanotecnologia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Microeletronica | Nanotecnologia | Plasmas