Otimização dos parâmetros de deposição de interface em estudos de deposição filmes de DLC em superfície complexa de materiais metálicos usando PECVD modificada

• Processo: 25/16603-3
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de outubro de 2025
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2025
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Vladimir Jesus Trava-Airoldi
• Beneficiário: William Alex da Silva Magalhães
• Instituição Sede: Instituto de Ciência e Tecnologia (ICT). Universidade Federal de São Paulo (UNIFESP). Campus São José dos Campos. São José dos Campos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 19/18572-7 - Novos Materiais de Carbono: Suas Aplicações Espaciais, Ambientais e Spin Offs Relevantes, AP.TEM
• Assunto(s): Aderência Filmes finos Interface Materiais metálicos Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Aderência | Diamond-like Carbon (DLC) | Filmes finos | Interfaces | Materiais Metálicos | pecvd | Firmes Finos de DLC

Resumo

Muitos materiais, considerados pobres em termos de aplicações, podem se tornar muito ricos em caso de modificações de suas superfícies, seja por incorporação de novos elementos em sua estrutura ou pela simples deposição de um material protetor, ou ainda a soma destes dois procedimentos. Uma técnica consagrada na equipe, a PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) com catodo adicional, abriu novas frentes de estudos, especialmente por permitir obter boa uniformidade e grande aderência entre o filme de carbono e o respectivo substrato metálico ou não metálico. Neste trabalho, será realizado a modificação de superfície para a deposição de filme de DLC (Diamond-like Carbon) e transformar a superfícies de alguns tipos de metais, em geral muito usados em aplicações espaciais e industriais, mas especificamente será estudado a uniformidade de deposição em todo o volume do reator fazendo uso de substratos de geometrias tridimensionalmente complexas. Para o alcance deste objetivo, a técnica a ser utilizada será justamente a que foi otimizada em nosso laboratório, a DC pulsada PECVD com o catodo adicional, que permite depositar DLC em temperaturas baixas e me pressões, também, muito baixas. Para as caracterizações serão utilizadas as técnicas de microscopia eletrônica de varredura, de espectroscopia de espalhamento Raman, indentação em nano e macro escala, tribológicas, etc..