Modificação superficial de alumina através de deposição por plasma

• Processo: 99/07679-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 1999
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2000
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Douglas Gouvêa
• Beneficiário: Gilberto José Pereira
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 97/06152-2 - Estudos de dispersões cerâmicas em solventes não aquosos, AP.JP
• Assunto(s): Alumina Filmes finos Plasma (estados da matéria)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Alumina | Filmes Finos | Modificacao | Molhamento | Plasma

Resumo

A proposta deste trabalho é a modificação superficial das amostras de alumina sinterizada através de deposição por plasma de HMDS e/ou TEOS, e a caracterização do filme formado com relação à molhabilidade em relação à polaridade do filme formado. (AU)