Dopagem anódica de filmes de ZrO2 com Nb2O5

• Processo: 02/09255-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 2003
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2003
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Química - Físico-química
• Pesquisador responsável: Ernesto Chaves Pereira de Souza
• Beneficiário: Camila Siviero Pagani
• Instituição Sede: Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil
• Assunto(s): Anodização Óxido de nióbio Zircônia Dopagem anódica Dielétricos Filmes
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Anodizacao | Dopagem Anodica | Filmes Anodicos | Oxido De Niobio | Oxido De Zirconio | Ruptura Dieletrica

Resumo

A dopagem anódica é uma metodologia de modificação das propriedades físico-químicas de filmes de óxido preparados por anodização a qual foi desenvolvida em nosso laboratório. Utilizando esta metodologia, conseguimos preparar ZrO2 na cúbica preparado à temperatura ambiente dopando o mesmo com CaO. A obtenção de ZrO2 nesta fase utilizando métodos cerâmicos tradicionais só ocorre em temperaturas da ordem de 1000 C. Apesar do ineditismo do método; o procedimento experimental é bastante simples, o que permite que tópicos desta linha de pesquisa seja desenvolvida como projeto de iniciação cientifica. Além disso, é necessário estudar novos sistemas onde a dopagem anódica ocorra, seja estudando novos dopantes ou outros metais de base. Neste sentido, este projeto visa investigar a dopagem de ZrO2 com Nb2O5 utilizando esta metodologia. A realização do projeto permitirá a aluna aprender técnicas eletroquímicas, a utilizar a difração de raios X, a microscopia eletrônica de varredura e ainda aprender técnicas quiométricas como o planejamento fatorial. (AU)