Caracterizacao de plasmas usados para corrosao de materiais semicondutores e crescimento de nanotubos.

• Processo: 03/05265-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de setembro de 2003
• Data de Término da vigência: 31 de agosto de 2006
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Jacobus Willibrordus Swart
• Beneficiário: Andre Mascia Daltrini
• Instituição Sede: Centro de Componentes Semicondutores (CCS). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Nanotubos de carbono Corrosão por plasma Silício Espectroscopia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Corrosao Por Plasma | Diagnostico De Plasmas | Espectroscopia | Nanotubos De Carbono | Silicio | Sonda De Langmuir

Resumo

O controle dos mecanismos de corrosão por plasma é de grande importância nos dias atuais para a fabricação de micro e nanodispositivos. Nos últimos anos, uma série de trabalhos tem sido feito no CCS da UNICAMP, em colaboração com outros laboratórios, para atingir esse intento. Contudo, devido à falta de diagnósticos de plasmas, muitos processos ainda continuam obscuros. Pretendemos assim nesse projeto desenvolver vários diagnósticos para a caracterização de plasmas em dispositivos de corrosão e obter então um melhor desempenho dos dispositivos fabricados e uma descrição mais detalhada dos vários processos em desenvolvimento no CCS. Dentre os principais diagnósticos a serem utilizados destacamos: Sonda de Langmuir, Espectroscopia visível (actinometria), Espectroscopia VUV e Espectroscopia de massa. A utilização conjunta desses vários diagnósticos não é comum em estudos com plasmas reativos, de modo que os modelamentos de corrosão desenvolvidos a partir de seus resultados seguramente renderão resultados inéditos e publicações em importantes periódicos da área. (AU)