Otimização dos parâmetros de preparação de interface para nucleação de filmes de DLC em superfície de Ti-6Al-4V

• Processo: 08/04525-2
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2008
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2010
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Vladimir Jesus Trava-Airoldi
• Beneficiário: Deiler Antônio Lima Oliveira
• Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 07/00013-4 - Novos materiais, estudos e aplicações inovadoras em diamante-CVD, diamond-like-carbon (DLC) e carbono nanoestruturado obtidos por deposição química a partir da fase vapor, AP.TEM
• Assunto(s): Filmes finos Desgaste dos materiais Dureza
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Aderência | desgaste | Dlc | dureza | Filmes finos | Interface | Filmes finos

Resumo

Muitos materiais, considerados pobres em termos de aplicações, podem se tornar muito ricos em caso de modificações de suas superfícies, seja por incorporação de novos elementos em sua estrutura ou pela simples deposição de um material protetor, ou ainda a soma destes dois procedimentos. Neste trabalho, deseja-se utilizar tanto a modificação de superfície como a deposição de filme de DLC (Diamond-like Carbon) para transformar a superfície de titânio e suas ligas, como a Ti6Al4V, em geral muito usada em aplicações espaciais e industriais. Entretanto, para uma grande abrangência destas aplicações é desejável obter superfícies modificadas relativamente grandes com os filmes de DLC bem aderentes. Para o alcance deste objetivo, a técnica em evidência é justamente a técnica que foi otimizada em nosso laboratório na obtenção de filmes de baixa tensão residual, altas durezas e alta aderência de filmes de DLC em outros tipos de substratos metálicos. Esta técnica é a DC pulsada PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Com esta técnica é possível fazer a modificação de superfície e ao mesmo tempo efetuar o depósito do filme de DLC, efetuando manobras de trocas "in situ" de gases e alteração de parâmetros de nucleação e de crescimento dos filmes de DLC. Neste trabalho o aluno entrará em contato com as técnicas de caracterizações, como espectroscopia de espalhamento Raman, para estudos da qualidade e de microestruturas dos filmes e de interfaces, microscopia eletrônica de varredura, perfilometria, indentação, micro nano indentação para medidas de dureza, testes tribológicos para medidas de desgaste e atrito, etc. O aluno será submetido a todas as práticas laboratoriais necessárias para o seu bom desenvolvimento em pesquisa científica na área dos novos materiais, especialmente na área de revestimentos duros e resistentes a corrosão. (AU)