Estudos de filmes de tio2 em tioxny obtidos pela tecnica de rf magnetron sputtering.

• Processo: 07/04327-3
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de outubro de 2007
• Data de Término da vigência: 30 de setembro de 2010
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Ines Pereyra
• Beneficiário: Katia Franklin Albertin Torres
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Sistemas microeletromecânicos Pulverização catódica Dióxido de titânio
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: dielétricos de alto k | Mems | opto eletronica | Óxido de Titânio | oxinitreto de titânio | RF magnetron sputtering | Estudo de novos materiais e dispositivos

Resumo

Este trabalho visa a deposição e caracterização de filmes de óxido de titânio (TiO2) e oxinitreto de titânio (TiOxNy) com diferentes concentrações de nitrogênio. A idéia é correlacionar as propriedades estruturais, elétricas, dielétricas, ópticas e a estabilidade termodinâmica com a composição química do material. Esta proposta vai de encontro com as linhas de pesquisa em dispositivos semicondutores, óptica integrada e de dispositivos micro-eletro mecânicos (MEMS) do Grupo de Novos Materiais e Dispositivos (GNMD) da Escola Politécnica da USP (onde será realizado este projeto) contempladas no projeto Temático FAPESP (Processo No 00/10027-3) ao qual este pós-doutorado estará vinculado.