Gravacao de estruturas submicrometricas para fabricacao de componentes opto-eletronicos.

• Processo: 97/00742-2
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 1997
• Data de Término da vigência: 31 de janeiro de 1998
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Telecomunicações
• Pesquisador responsável: Carlos Raimundo Andrade Lima
• Beneficiário: Carlos Raimundo Andrade Lima
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Componentes Opto Eletronicos | Microlitografia | Plasma Etching

Resumo

O objetivo do presente plano de trabalho é o desenvolvimento e caracterização de processo para geração de estruturas periódicas em relevo de alta freqüência espacial, visando sua aplicação para a confecção de componentes ópticos e opto-eletrônicos. (AU)