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Desenvolvimento dos processos de deposicao e de microlitografia em filmes de carbono amorfo para fabricacao de componentes opticos difrativos.

Processo: 97/02474-5
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Data de Início da vigência: 01 de agosto de 1997
Data de Término da vigência: 30 de setembro de 1999
Área de conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Áreas Clássicas de Fenomenologia e suas Aplicações
Pesquisador responsável:Marco Antonio Robert Alves
Beneficiário:Marco Antonio Robert Alves
Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Carbono amorfo
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Carbono Amorfo | Deposicao De Filmes Pecvd | Microlitografia

Resumo

O objetivo e o estudo e desenvolvimento do processo de deposição de filmes de carbono amorfo por PECVD com qualidade óptica assim como de processos de microlitografia utilizando corrosão por plasma reativo nestes filmes para fabricação de componentes ópticos difrativos em relevo. (AU)

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