Investigação de materiais à base de silício mediante técnicas de micro e nano caracterização

• Processo: 06/04245-4
• Modalidade de apoio: Bolsas no Exterior - Pesquisa
• Data de Início da vigência: 19 de fevereiro de 2007
• Data de Término da vigência: 18 de julho de 2007
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Antonio Ricardo Zanatta
• Beneficiário: Antonio Ricardo Zanatta
• Pesquisador Anfitrião: Martin Eric Kordesch
• Instituição Sede: Instituto de Física de São Carlos (IFSC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Instituição Anfitriã: Ohio University, Estados Unidos
• Assunto(s): Filmes finos Semicondutores
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Novos Materiais | Semicondutores | Tecnicas De Microscopia | Tecnicas Espectroscopicas | Técnicas espectroscópicas

Resumo

Este programa de pesquisas de curta duração tem por objetivo principal a investigação de materiais à base de silício mediante a utilização de técnicas de alta resolução espacial. As amostras a serem investigadas consistirão de filmes de SiN dopados com íons terra-rara e filmes de Si contendo Ni ou Fe. O programa prevê a realização de caracterizações ópticas e composicionais e, principalmente, o emprego de diferentes técnicas de microscopia (eletrônica, de campo próximo, de foto-elétrons). A partir da realização deste programa, esperamos poder avançar significativamente no entendimento das propriedades opto-eletrônicas desta classe de materiais de grande interesse tecnológico. O programa contempla, ainda, minha iniciação no estudo da reações dinâmicas (thermites) e de nano-partículas de ouro. Representa o início de uma cooperação científica internacional que permitirá aperfeiçoar meus conhecimentos na área de nano-ciências (mais especificamente, em técnicas de caracterização de alta resolução espacial). (AU)