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Aplicacion DEL dopage tipo delta para el diseno de estructuras semicondutoras CON mejores prestaciones corriente voltaje

Processo: 96/11526-6
Modalidade de apoio:Bolsas no Exterior - Pesquisa
Data de Início da vigência: 07 de março de 1997
Data de Término da vigência: 20 de abril de 1997
Área de conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Flavio Aristone
Beneficiário:Flavio Aristone
Pesquisador Anfitrião: José Sanchez Dehesa
Instituição Sede: Pessoa Física
Instituição Anfitriã: Universidad Autónoma de Madrid (UAM), Espanha  
Assunto(s):Dopagem planar   Simulação numérica   Semicondutores
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Dopagem Planar | Parametros De Crescimento | Simulacao Numerica | Transporte Vertical

Resumo

O crescimento de estruturas semicondutoras complexas é atualmente dominado através do uso de técnicas como M.B.E. Pretendemos modelizar as condições (determinação de parâmetros mais adaptados) para o crescimento de super-redes do tipo S-doped onde se possa buscar efeitos como N.D.V. e/ou N.D.C. (velocidade diferencial negativa e condutância diferencial negativa), em experimentos de transporte vertical (na direção de crescimento). Tais dispositivos são de importância máxima para a elaboração de osciladores de altas frequências, por exemplo. (AU)

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