Produção de novos filmes para detecção de poluentes

• Processo: 00/02816-8
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado
• Data de Início da vigência: 01 de junho de 2000
• Data de Término da vigência: 30 de abril de 2002
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Maria Lúcia Pereira da Silva
• Beneficiário: Antonio Pereira do Nascimento Filho
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Modificação de superfícies Filmes finos Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Hmds | Modificacao De Superficie | Polimerizacao Por Plasma

Resumo

O presente trabalho tem como objetivo a obtenção de filmes finos, pelo processo de deposição por plasma, que apresente como principais características: - caráter hidrofílico; - resistência à corrosão, especialmente por ácidos fortes; - possam ser usados como camada para adsorção de compostos polares. Tais filmes serão usados, pelo laboratório onde o trabalho se desenvolve (LSI), para a obtenção de novos dispositivos sensores, com especial ênfase ao uso na área ambiental. O desenvolvimento e/ou otimização do processo será monitorado principalmente pela medida do índice de refração e da taxa de deposição dos filmes. A caracterização química dos filmes exigirá o uso de espectroscopia de infravermelho e de Raman, além de testes de resistência química e de adsorção. A caracterização física será feita através de medida do ângulo de contato. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

NASCIMENTO FILHO, Antonio Pereira Do. Produção de novos filmes para detecção de poluentes.. 2002. Dissertação de Mestrado - Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) São Paulo.