| Processo: | 97/14660-8 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Doutorado |
| Data de Início da vigência: | 01 de setembro de 1998 |
| Data de Término da vigência: | 30 de novembro de 1999 |
| Área de conhecimento: | Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada |
| Pesquisador responsável: | Mauricio Urban Kleinke |
| Beneficiário: | Marta Elisa Rosso Dotto |
| Instituição Sede: | Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Filmes Finos | Fractais | Scaling |
Resumo Pretendemos discutir a dinâmica da formação de superfícies auto-afins (self-affine). Lâminas (wafers) de silício monocristalinas (com orientações e dopagens variadas) serão submetidas a ataques eletroquímicos (gerando silício poroso) ou químicos (gerando distintas estruturas). A morfologia gerada será analisada ex-situ por microscopia de força atômica, com uma variação de escala na análise de algumas ordens de grandeza. Estas estruturas superficiais serão caracterizadas por seu expoente de rugosidade (o qual é correlato à dimensão fractal) ê de crescimento. A partir destes expoentes, iremos buscar leis de escala que permitam "colapsar" os dados experimentais e descrever a morfogênese a partir de leis de escala. Os modelos cinéticos tradicionais superficiais descrevem a formação das superfícies a partir da deposição de material. Estes modelos deverão ser adaptados para descrever o processo físico de retirada de átomos. Esperamos explicar os resultados experimentais a partir das leis de escala, colaborando para ampliar o conceito de universalidade do fenômeno de formação de superfícies. (AU) | |
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