Estudos sobre corrosão de materiais eletrônicos usando feixe de plasma a baixa pressão

• Processo: 00/06077-5
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de julho de 2000
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2004
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Homero Santiago Maciel
• Beneficiário: Paulo Eduardo Lima
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Corrosão dos materiais Tecnologia de plasma
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Corrosao Por Plasma | Dlc | Feixe De Plasma | Filmes Finos | Rie (Reactive Ion Etching) | Tecnologia De Plasma

Resumo

Neste trabalho serão desenvolvidos estudos sobre corrosão por plasma (plasma etching) com o objetivo de aperfeiçoar a aplicação de feixe de plasmas para a corrosão de materiais eletrônicos. Uma nova modalidade de reator no qual um feixe de plasmas é gerado em alto vácuo será implementada para proceder à corrosão dos materiais. O princípio de sua aplicação como reator de corrosão já foi demonstrado no caso de corrosão de filmes de DLC (Diamond-like carbon) usando um feixe de plasma de oxigênio. Condições estruturais e operacionais do reator serão investigadas com o propósito de se alcançar características de corrosão adequadas a processos de microeletrônica tomando-se como base de comparação os resultados conhecidos, obtidos através da técnica RIE (Reactive lon Etching) já consolidada nos laboratórios LSI (Laboratório de Sistemas Integráveis da USP) e LPP (Laboratório de Plasmas e Processos do ITA). Os materiais a serem usados, especificamente silício, filmes de DLC e filmes de nitreto de alumínio, se encontram disponíveis nestes laboratórios. Resultados preliminares indicam que o processo em alto vácuo e a deriva do plasma oferecem algumas potenciais vantagens desta técnica em relação a processos de corrosão por plasma convencionais. A corrosão em ambiente de baixa pressão (10E-4 Torr) reduz a presença de impurezas e a energia de deriva dos íons (dezenas de eV) favorece a anisotropia da corrosão. (AU)