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Filme fino do polieletrolito cloreto de 3-n-propilpiridinio silsesquioxano sobre sio2 e sio2/al2/o3.

Processo: 98/12742-0
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Doutorado
Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 1998
Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2002
Área de conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Química - Química Inorgânica
Pesquisador responsável:Yoshitaka Gushikem
Beneficiário:Sergio Toshio Fujiwara
Instituição Sede: Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Óxido de alumínio   Sílica gel
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Filme De Alumina | Filme De Polieletrolito | Oxido De Aluminio | Polieletrolito De Ion Piridino | Silica Gel

Resumo

O presente projeto visa preparar e caracterizar o polieletrólito cloreto de 3-n-propilpiridinio silsesquioxano imobilizado em SiO2/Al2O3 e SiO2. O polieletrólito é bastante solúvel em água e apesar de possuir característica filmogênica (capacidade de formar filmes) bastante boa, o lixiviamento do mesmo de uma superfície pode ocorrer em solução aquosa. A utilização do substrato SÍ02/A12O3 tem como objetivo obter um filme do polímero com bom grau de aderência pela formação da ligação Si-O-Al, entre o substrato e o polieletrólito. Espera-se com este procedimento obter um material com capacidade de troca aniônica bastante elevada, o que viabilizaria a sua aplicação na remoção de íons metálicos presentes em etanol. A utilização de sílica pura, SiO2, como substrato terá como objetivo a comparação dos resultados. (AU)

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Publicações acadêmicas
(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)
FUJIWARA, Sergio Toshio. Filme fino do polietetrolito cloreto de 3-n-propilpiridinio silsesquioxano sobre SiO²/AL²O³: preparação, caracterização e aplicações. 0000. Tese de Doutorado - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Instituto de Química Campinas, SP.