| Processo: | 03/09716-7 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Mestrado |
| Data de Início da vigência: | 01 de março de 2004 |
| Data de Término da vigência: | 28 de fevereiro de 2006 |
| Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos |
| Pesquisador responsável: | Patrick Bernard Verdonck |
| Beneficiário: | Bruno da Silva Rodrigues |
| Instituição Sede: | Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Flúor Microeletrônica |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Caracterizacao | Fluor | Microeletronica | Micromaquinas | Plasma |
Resumo Neste projeto será feito um estudo de plasmas fluorados acoplados indutivamente (inductively coupled plasmas - ICP) Estes plasmas têm a grande vantagem sobre plasmas tipo "Reactive lon Etching - RIE" que a densidade do plasma é muito maior. Desta maneira, processos de corrosão com melhores características podem ser obtidos com estes plasmas tipo ICP. Serão analisados plasmas a base de CF4, medindo várias características de plasma tais como densidade, potencial de plasma, potencial flutuante etc. Em seguida estes plasmas serão aplicados para fazer corrosão de silício. Processos de corrosão serão analisados, determinando taxas de corrosão, anisotropia, nível de rugosidade etc. (AU) | |
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