Caracterização de plasmas com a técnica de sonda eletrostática.

Autor(es)

Giuseppe Antonio Cirino

• Tipo de documento: Dissertação de Mestrado
• Imprenta: São Paulo.
• Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC)
• Data de defesa: 1998-05-29

Membros da banca

Patrick Bernard Verdonck; Homero Santiago Maciel; Gilberto Marrega Sandonato

• Orientador: Patrick Bernard Verdonck

Resumo

Neste tabalho foi realizado um estudo da técnica de sondas eletrostáticas para caracterização de plasmas utilizados em processos de microeletrônica, particularmente na corrosão seca por plasma. Esta técnica permite determinar parâmetros elétricos de plasma como densidade de plasma, energia média de elétron, potencial flutuante e potencial de plasma. Foi realizado um estudo comparativo de vários tipos de sondas entre elas, uma sonda simples com choque de RF, uma sonda simples com choque de RF e com eletrodo de compensação e uma sonda dupla. Primeiramente foi verificada a influência dos choques de RF com uma nova técnica, medindo-se com um osciloscópio a componente AC do potencial gerado pelo plasma, através do choque. Depois foram caracterizados plasmas de argônio com três tipos diferentes de sondas. Os resultados obtidos mostram que a sonda dupla permite obter a densidade de plasma e a energia média de elétron com maior precisão; a sonda com choque de RF e com eletrodo de compensação apresenta resultados mais confiáveis de potencial e plasma e potencial flutuante, em relação à sonda construída somente com o choque de RF. Foi feita caracterização de plasmas com gases utilizados nos processos de microeletrônica: argônio, oxigênio e hexafluoreto de enxofre. (AU)

• Processo FAPESP: 96/00842-4 - Aplicação de sondas eletrostáticas na caracterização de processos de corrosão por plasma
• Beneficiário: Giuseppe Antonio Cirino
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado