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Propriedades Eletrônicas e Estruturais de Elementos do Grupo V em Semincondutores Amorfos

Texto completo
Autor(es):
Pedro Paulo de Mello Venezuela
Número total de Autores: 1
Tipo de documento: Tese de Doutorado
Imprenta: São Paulo.
Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF/SBI)
Data de defesa:
Membros da banca:
Adalberto Fazzio; Alex Antonelli; Lucy Vitoria Credidio Assali; Hélio Chacham; Marcia Carvalho de Abreu Fantini
Orientador: Adalberto Fazzio
Resumo

Apresentamos um estudo sistemático das propriedades eletrônicas e estruturais dos elementos N, P e AS em SI e GE amorfos. Primeiramente, utilizamos o método de Monte Carlo para gerar as configurações amorfas iniciais. Nesta etapa as interações atômicas são descritas pelos potencias de Tersoff. A partir do modelo inicial para os sistemas desordenados, as propriedades eletrônicas e estruturais são determinadas usando a teoria do funcional da densidade e os pseudopotenciais de Bachelet-Hamann-Schlüter. Concluímos que as impurezas de P e AS são estáveis em sítios tricoordenados e metaestáveis em sítios tetracoordenados para os dois sistemas hospedeiros. Por outro lado a impureza de N apresenta um comportamento diferente. Este átomo é estável em sítios tricoordenados para ambos os hospedeiros, mas em sítios tetracoordenados ele é instável no a-SI e metaestável no a-GE. Discutimos a relevância de nossos resultados relacionados com a dopagem tipo-n de semicondutores amorfos hidrogenados. (AU)

Processo FAPESP: 93/00351-2 - Propriedades eletrônicas e estruturais de semicondutores amorfos
Beneficiário:Pedro Paulo de Mello Venezuela
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado