Tipo de documento: | Patente |
Inventor(es): | Carlos Kenichi Suzuki; Eric Fujiwara; Eduardo Ono |
Depositante: | Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) |
Data do depósito: | 18 de julho de 2007 |
Registro INPI: | |
IPC: | B23Q 15/12 |
SISTEMA DE CONTROLE PARA USO EM PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE PREFORMA NÃO-CIRCULAR, PROCESSO UTILIZANDO REFERIDO SISTEMA E PREFORMÁ DE SÍLICA OBTIDA POR MEIO DO REFERIDO PROCESSO. A presente invenção refere-se a um sistema de controle utilizado no processo de fabricação de preforma de sílica com geometria não-circular. Mais especificamente, referido sistema de controle consiste no controle da velocidade de rotação da preforma durante a etapa de deposição de nanopartículas, de modo a produzir preformas com dimensões definidas e diversas geometrias, como elípticas, triangulares, quadrangulares, retangulares entre outros. Refere-se ainda a presente invenção a otimização de um processo para fabricação de uma preforma com geometria não-circular, eliminado a necessidade de realização de etapas adicionais ao processo para alteração da geometria, tais como cortes, prensagens ou ataques químicos, para obtenção da forma desejada, proporcionando uma grande economia de material e redução no tempo de produção. Adicionalmente, refere-se a presente invenção a uma preforma confeccionada em sílica com alto grau de pureza, alta transparência ótica, principalmente na região do ultra violeta, resistência a alta temperatura, baixo coeficiente de dilatação térmica, alta homogeneidade do material quanto ao índice de refração e biorefrigéncia.
Processo FAPESP: | 06/00264-4 - Automação do processo de produção de preformas elípticas para fibras ópticas mantenedoras de polarização |
Beneficiário: | Eric Fujiwara |
Pesquisador responsável: | Carlos Kenichi Suzuki |
Instituição: | Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM) |
Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Iniciação Científica |
Processo FAPESP: | 07/55329-6 - Agência inova da UNICAMP. tecnologia 1: vidros; tecnologia 2: difusa |
Beneficiário: | Roberto de Alencar Lotufo |
Pesquisador responsável: | Roberto de Alencar Lotufo |
Instituição: | Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC) |
Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Programa de Apoio à Propriedade Intelectual (PAPI/Nuplitec) |