PROCESSO DE PRODUÇÃO DE SÍLICA VÍTREA E SÍLICA VÍTREA ASSIM OBTIDA

PROCESSO DE PRODUÇÃO DE SÍLICA VITREA E SÍLICA VITREA ASSIM OBTIDA. O presente pedido de patente de produto e processo para a produção de sílica vítrea, especialmente para componentes ópticos, principalmente lentes, utilizados em litografia óptica na região UV compreende o ajuste das condições de deposição e consolidação do método VAD ("Vapor-phase Axial Deposition") e, indiretamente, no ajuste da concentração de OH e da variação da temperatura da superfície de deposição da preforma sobre a qual as nanopartículas de sílica são depositadas. Através do presente método, a sílica vítrea é confeccionada com homogeneidade de índice de refração menor ou igual a 5 ppm, birrefringência menor ou igual a 2 nm/cm, transparência na região UV maior ou igual a 90% e resistência à irradiação do laser excimer sem a necessidade do tratamento de homogeneização, otimizando, portanto, o custo e o tempo de produção.