COMPLEXO DENDRÍMETRO-SUBSTÂNCIA FOTOSSENSIBILIZANT... - BV FAPESP
Busca avançada
Ano de início
Entree

COMPLEXO DENDRÍMETRO-SUBSTÂNCIA FOTOSSENSIBILIZANTE, COMPOSIÇÃO COMPREENDENDO O REFERIDO COMPLEXO, USO DO COMPLEXO E KIT

Tipo de documento:Patente
Inventor(es): Danielle C. A. S. de Santana; Flavio da Silva Emery; Luciana M. P. de Campos Araújo; Renata Fonseca Vianna Lopez; Stephania Fleury Taveira
Depositante: Universidade de São Paulo (USP)
Data do depósito: 03 de fevereiro de 2012
Registro INPI:
BR1020120024942
IPC: A61K 31/4035
Resumo

COMPLEXO DENDRÍMEROSUBSTÂNCIA FOTOSSENSIBILIZANTE, COMPOSIÇÃO COMPREENDENDO O REFERIDO COMPLEXO, USO DO COMPLEXO E KIT. A presente invenção se. refere a um complexo formado por um dendrimero e uma substância fotossensibilizante, bem como uma composição compreendendo tal complexo, em concentrações jônicas adequadas, as quais são destinadas à administração tópica passiva e iontoforética, para auxiliar no tratamento de tumores cutâneos. Adicionalmente, a presente invenção se refere ao uso do complexo e um kit, compreendendo a composição e um dispositivo de iontoforese para aplicá-la.


Processo FAPESP: 06/03575-0 - Dendrímeros como sistemas de liberação tópica para a veiculação do ALA e da PpIX para uso na terapia fotodinâmica do câncer de pele
Beneficiário:Luciana Mattoso Pires de Campos Araújo
Pesquisador responsável:Renata Fonseca Vianna Lopez
Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Faculdade de Ciências Farmacêuticas de Ribeirão Preto (FCFRP)
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado