Resumo
Neste trabalho será feita a caracterização experimental de estruturas Ni/Al e Ni/Si-poli visando a fabricação de microeletrodos e estruturas de porta MOS. O controle de qualidade consistirá em obter-se camadas de níquel depositadas sobre alumínio ou silício policristalino com baixas rugosidades interfaciais e baixas resistências de contato de forma a assegurar o melhor desempenho possível…