Resumo
Será instalado um processo básico de oxidação úmida para formação de SiO2 usado como máscara em corrosão química anisotrópica do silício. Amostras apropriadamente mascaradas serão corroídas em um reator que permite o uso ou não de ultrassom, além de temperatura e agitação controladas. As máscaras utilizadas permitirão obter os pontos de máximo e mínimo locais do diagrama de velocidade de …