Resumo
Neste estudo, propõe-se um estudo teórico de interação de elétrons de energias baixas e intermediárias (1-500 eV) com radicais livres CH2, SiH2, CF2, e SiF2. Esses radicais livres são resultados da interação de elétrons com moléculas do tipo CF4 e SiF4, que são largamente utilizadas no processamento de semicondutores por plasma. A presença destes radicais no plasma certamente alteraria as…