Síntese e caracterização de silício poroso para aplicação em dispositivos fotônicos

Resumo

O projeto a ser desenvolvido baseia-se na preparação e caracterização de cristais fotônicos de Silício com padronização de esferas de ar. A preparação consiste na infiltração de moldes de esferas de látex e Sílica a serem removidas posteriormente por calcinação e ataque químico, respectivamente. Duas técnicas de preparação serão utilizadas: filtração a vácuo e deposição química a vapor. A primeira permitirá a preparação de cristais fotônicos de Silício com baixo custo operacional enquanto a segunda técnica resultará em cristais fotônicos com uma estrutura cristalina melhor definida. Os cristais fotônicos obtidos serão caracterizados por microscopia eletrônica e transmitância óptica, visando obter o grau de infiltração dos moldes e a sua faixa de freqüências proibidas. A indução de defeitos pontuais e lineares no cristal fotônico por litografia de feixes de elétrons será realizada após a sua caracterização, com o intuito de analisar o desempenho do material obtido no armazenamento e transmissão do sinal óptico. (AU)