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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Influence of deposition parameters on the structure and microstructure of Bi12TiO20 films obtained by pulsed laser deposition

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Autor(es):
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Gorup, L. F. [1, 2, 3] ; Bouquet, V. [2] ; Deputier, S. [2] ; Dorcet, V. [2] ; Guilloux-Viry, M. [2] ; Santos, I. M. G. [4] ; Silva, A. A. [1] ; Nogueira, A. E. [5] ; Kubo, A. M. [3] ; Longo, E. [3] ; Camargo, E. R. [3]
Número total de Autores: 11
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Fed Univ Grande Dourados, Dept Chem, FACET, BR-79804970 Dourados, MS - Brazil
[2] Univ Rennes 1, Inst Sci Chim Rennes, CNRS, UMR 6226, Campus Beaulieu, F-35042 Rennes - France
[3] UFSCar Fed Univ Sao Carlos, LIEC Dept Chem, Rod Washington Luis Km 235, CP 676, BR-13565905 Sao Carlos, SP - Brazil
[4] Univ Fed Paraiba, Dept Chem, LACOM, Campus 1, BR-58059900 Joao Pessoa, PB - Brazil
[5] Brazilian Ctr Res Energy & Mat CNPEM, Brazilian Nanotechnol Natl Lab LNNano, BR-13083970 Campinas, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 5
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: CERAMICS INTERNATIONAL; v. 45, n. 3, p. 3510-3517, FEB 15 2019.
Citações Web of Science: 1
Resumo

The structure, morphology and surface roughness of Bi12TiO20 (BTO) thin films grown on R-sapphire by pulsed laser deposition (PLD) were studied at different substrate temperatures, target-substrate distances, oxygen pressures and laser-pulse repetition rates. Although the substrate temperature seems to be the most important experimental parameter, the gas pressure and the target-substrate distance played important role on the phase formed and film thickness, with a significant effect of the laser-pulse repetition rate on the films thickness and preferred orientation of the deposited film. Single-phase gamma-Bi12TiO20 was obtained on substrates at 650 degrees C, while several BTO metastable phases were observed in films deposited on substrates at temperatures between 500 and 600 degrees C. By the first time, thin films of pure and textured delta-Bi12TiO20 were successfully growth on substrates at 450 degrees C. When annealed, all the films deposited at lower temperatures resulted in the thermodynamically stable gamma-Bi12TiO20 (AU)

Processo FAPESP: 08/57872-1 - Instituto Nacional de Ciências dos Materiais em Nanotecnologia
Beneficiário:Elson Longo da Silva
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático
Processo FAPESP: 12/07067-0 - Fotocatalisadores baseados em titanato de bismuto sintetizadas pelo método dos complexos oxidantes de peróxido (OPM)
Beneficiário:Emerson Rodrigues de Camargo
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Regular
Processo FAPESP: 13/07296-2 - CDMF - Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais
Beneficiário:Elson Longo da Silva
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão - CEPIDs