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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Scaling laws in etched Si surfaces

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Autor(es):
Dotto‚ M.E.R. ; Kleinke‚ M.U.
Número total de Autores: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Physical Review B; v. 65, n. 24, p. 245323, 2002.
Processo FAPESP: 98/14769-2 - Observação e caracterização de não-estruturas por microscopia de força atômica
Beneficiário:Omar Teschke
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Equipamentos Multiusuários