An investigation of natural oxidation process on stain-etched nanoporous silicon by micro-Raman spectroscopy

Abramof‚ PG; Miranda‚ CRB; Beloto‚ AF; Ueta‚ AY; Ferreira‚ NG

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

An investigation of natural oxidation process on stain-etched nanoporous silicon by micro-Raman spectroscopy

Texto completo
Autor(es):	Abramof‚ PG ; Miranda‚ CRB ; Beloto‚ AF ; Ueta‚ AY ; Ferreira‚ NG Número total de Autores: 5
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Applied Surface Science; v. 253, n. 17, p. 7065-7068, 2007.

Processo FAPESP:	02/10604-6 - Processos eletroquímicos para obtenção de filmes de PbTe sobre silício poroso nanoestruturado: estudos de stress e aplicações em sensores de infravermelho
Beneficiário:	Neidenei Gomes Ferreira
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Regular

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