XPS Investigation of Plasma-Deposited Polysiloxane Films Irradiated with Helium Ions

Gelamo‚ R.V.; Landers‚ R.; Rouxinol‚ F.P.M.; Trasferetti‚ B.C.; Bica de Moraes‚ M.A.; Davanzo‚ C.U.; Durrant‚ S.F.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

XPS Investigation of Plasma-Deposited Polysiloxane Films Irradiated with Helium Ions

Texto completo
Autor(es):	Gelamo‚ R.V. ; Landers‚ R. ; Rouxinol‚ F.P.M. ; Trasferetti‚ B.C. ; Bica de Moraes‚ M.A. ; Davanzo‚ C.U. ; Durrant‚ S.F. Número total de Autores: 7
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Plasma Processes and Polymers; v. 4, n. 4, p. 482-488, 2007.

Processo FAPESP:	03/12775-5 - Sintese, tratamento e propriedades de filmes amorfos obtidos por pecvd e filamento quente.
Beneficiário:	Mário Antonio Bica de Moraes
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Regular

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