Electrochemical and optical characterization of RF-sputtered thin films of vanadium-nickel mixed oxides

Lourenco‚ A.; Masetti‚ E.; Decker‚ F.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Electrochemical and optical characterization of RF-sputtered thin films of vanadium-nickel mixed oxides

Texto completo
Autor(es):	Lourenco‚ A. ; Masetti‚ E. ; Decker‚ F. Número total de Autores: 3
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Electrochimica Acta; v. 46, n. 13, p. 2257-2262, 2001.

Processo FAPESP:	99/07138-9 - Estudo de filmes finos de óxidos mistos de vanádio como armazenadores de íons em dispositivos eletrocrômicos e microbaterias
Beneficiário:	Airton Lourenço
Modalidade de apoio:	Bolsas no Exterior - Pesquisa

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