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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Ion implantation for plasma torches

Texto completo
Autor(es):
Jankov‚ IR ; Goldman‚ ID ; Szente‚ RN
Número total de Autores: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: VACUUM; v. 65, n. 3, p. 547-553, 2002.
Processo FAPESP: 98/06907-6 - Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma
Beneficiário:Ivan Jankov
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado
Processo FAPESP: 99/03779-0 - Implantação iônica controlada para eletrodos de tochas de plasma
Beneficiário:Roberto Nunes Szente
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular