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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Theoretical investigation of the initial steps of the adsorption of N atoms on Si(100)-2x1

Texto completo
Autor(es):
Ueno, Leonardo T. ; Ornellas, Fernando R. [2]
Número total de Autores: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Surface Science; v. 490, n. 3, p. L637-L643, Sept. 2001.
Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Química
Assunto(s):Reações químicas   Átomos   Silício   Nitrogênio
Resumo

Structural, energetics, and mechanistics aspects of initial steps of the reaction of a N atom with Si(1 0 0)-2 x 1 modeled by the Si9H12 + N system are reported. Hybrid density functional B3LYP calculations predict a barrierless first step leading to an adsorbate where N is bound to one of the dimer Si. Two possible activated routes for internal rearrangements were found, with that leading to the incorporation of Si below the first layer predicted to be kinetically dominant (98%) under the experimental conditions. This structure and frequency calculations are consistent with the experimental finding of a planar NSi3 moeity and with the experimental SiN asymmetric stretching frequency of the NSi3 groups. (AU)

Processo FAPESP: 00/08920-1 - Estrutura, cinética e espectroscopia de sistemas de relevância atmosférica e astroquímica
Beneficiário:Fernando Rei Ornellas
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular