Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz - sistema de medição de tensão, corrente e potência

• Processo: 18/22595-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Pesquisa Inovativa em Pequenas Empresas - PIPE
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2019
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2021
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Wagner Henrique Rabelo
• Beneficiário: Wagner Henrique Rabelo
• Empresa: Intersecta Engenharia Ltda
• CNAE: Fabricação de equipamentos e aparelhos elétricos não especificados anteriormente
• Pesquisadores associados: José Roberto Ribeiro Bortoleto ; Luís Filipe de Moura Santos
• Bolsa(s) vinculada(s): 19/20980-6 - Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz: sistema de medição de tensão, corrente e potência, BP.PIPE
• Assunto(s): Pulverização catódica Deposição de filmes finos Filmes finos Radiofrequência Campo elétrico
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes finos | fonte de potência de plasma | Óxidos transparentes condutivos | Pulverização Catódica | Filmes Finos

Resumo

O projeto consiste na conclusão do protótipo comercial de uma fonte de potência (300W), de corrente alternada (600 VAC), operando entre 10 a 40 kHz, responsável por iniciar e sustentar o campo elétrico utilizado para a geração do plasma. Esta fonte será utilizada para a deposição de filmes finos por meio da técnica de magnetron sputtering sendo uma alternativa à tecnologia em rádio frequência, atualmente usada em larga escala no Brasil, que tem um custo maior. (AU)