Estudo do mecanismo de deposicao de filmes finos duros de nitretos assistida por feixe de ions.

• Processo: 99/00013-6
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de junho de 1999
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2004
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Masao Matsuoka
• Beneficiário: Masao Matsuoka
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição física de vapor Nitreto de carbono Nitreto de boro
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposicao Fisica De Vapor | Filme Fino | Nitreto De Boro | Nitreto De Carbono

Resumo

Os materiais superduros de próxima geração, tais como nitreto de boro cúbico (c-BN) e nitreto de carbono (na forma ß-C3N4) são compostos metastáveis que podem ser sintetizados no processo de equilíbrio termoquímico sob altas pressões e temperaturas. Para formar esses materiais sobre substratos em temperaturas próximas à temperatura ambiente, é indispensável o uso de um campo de reação de não-equilíbrio em que os elementos constituintes são ativos em estados excitados. No presente projeto, pretendemos: (1) formar filmes finos de c-BN e ß-C3N4 com o método de deposição assistida por feixe de íons (Ion-beam assisted deposition, IBAD), considerando-se o bombardeamento de íons energéticos como a fonte de excitação; (2) estudar o mecanismo de formação desses filmes; (3) correlacionar com a dureza dos filmes finos suas propriedades; (4) desenvolver aplicações para os filmes produzidos. (AU)