Filmes de carbono amorfo hidrogenado para aplicacoes eletricas e opticas.

• Processo: 99/04871-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 1999
• Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2002
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica
• Pesquisador responsável: Edmundo da Silva Braga
• Beneficiário: Edmundo da Silva Braga
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Carbono Amorfo Hidrogenado | Componentes Difrativos | Componentes Eletronicos | Deposicao Assistida/Plasma | Filmes Finos | Microlitografia

Resumo

Filmes de carbono amorfo hidrogenado têm tido grande interesse recentemente devido a suas propriedades de dureza e neutralidade química, além da facilidade de deposição por processos PECVD. Nosso grupo tem sido pioneiro no desenvolvimento de processos de micro litografia e aplicações destes filmes em óptica e microeletrônica. O objetivo deste projeto é o estudo e desenvolvimento do processo de deposição de filmes de carbono amorfo hidrogenado assim como o desenvolvimento de processos de micro litografia nestes filmes utilizando tanto técnicas de exposição convencionais como holográficas para finalizar com o desenvolvimento de aplicações em dispositivos semicondutores e componentes ópticos difrativos. (AU)