Estudos eletroquímica de polímeros conjugados e de estruturas e auto organizadas de copolímeros tribloco

• Processo: 07/05937-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2007
• Data de Término da vigência: 31 de outubro de 2009
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Roberto Mendonça Faria
• Beneficiário: Roberto Mendonça Faria
• Instituição Sede: Instituto de Física de São Carlos (IFSC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Assunto(s): Polímeros conjugados Copolímeros Eletroquímica Auto-organização Sistemas fotovoltaicos Dopagem eletrônica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Copolímeros triblocos | Eletroquímica | nanoestruturas | polímeros conjugados | Sistemas auto-organizados | Física de Polímeros

Resumo

Neste trabalho serão realizadas investigações sobre deposição e dopagem de filmes de polímeros conjugados (politiofeno, poli-p-fenileno vinileno e seus deirvados) e suas aplicações em dispositivos fotovoltaicos, e investigações sobre a dinâmica de formação de estruturas sub-micrométricas auto-organizadas copolímeros tribloco sobre substratos sólidos de rugosidade atômica, especificamente o copolímero poliestireno-b-poli(eteno-co-buteno-1)-b-poliestireno (SEBS),e o desenvolvimento de aplicações através da replicação dessas estruturas em outros sistemas. A técnica de Microscopia de Força Atômica (AFM) será usada para monitorar a qualidade dos filmes eletroquímicos depositados (espessura, rugosidade, etc) e as características das estruturas sub-micrométricas formadas. Voltametria cíclica e medidas de condutividade in situ acompanharão o grau de dopagem dos filmes de polímeros conjugados, e a formação de espécies polarônicas oriundas dos processos redox. Mecanismos de fluxo termocapilar (efeito Marangoni), de desmolhamento, da instabilidade de Rayleigh e interações oriundas da segregação de fase serão usados para explicar tais formações organizadas. Parâmetros tais como concentração polímero/solvente, taxa de evaporação do solvente, substrato (energia superficial) e hidrofibicidade do substrato serão variados para um estudo sobre a dependência da formação microestrutural. Por último, será desenvolvido um processo nanolitográfico a partir das microestruturas formadas através da técnica de soft lithography visando aplicabilidade em sistemas da microeletrônica. (AU)