Análise química, estrutural e influência de um filme de sílica depositado por plasma em uma cerâmica policristalina de zircônia tetragonal parcialmente estabilizada com ítria na durabilidade da união a cimentos resinosos

• Processo: 09/53584-4
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2010
• Data de Término da vigência: 31 de janeiro de 2012
• Área do conhecimento: Ciências da Saúde - Odontologia - Materiais Odontológicos
• Pesquisador responsável: Marco Antonio Bottino
• Beneficiário: Marco Antonio Bottino
• Instituição Sede: Faculdade de Odontologia (FOSJC). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de São José dos Campos. São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Zircônia tetragonal policristalina estabilizada com ítrio (Y-TZP) Resistência de união (odontologia) Tratamento de superfícies Ciclagem térmica (odontologia) Cisalhamento Cimentos de resina
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Ciclagem Termica | Plasma | Resistencia De Uniao | Silicatizacao | Tratamento De Superficie | Zirconia

Resumo

A proposta deste estudo será avaliar, in vitro, a influência de um fino filme de sílica depositado por plasma na resistência de união ao cisalhamento entre uma cerâmica de zircônia tetragonal parcialmente estabilizada com ítria (Y-TZP) e cimentos resinosos. Serão confeccionados 300 blocos (4,5x3,5x4,5) mm3 de uma cerâmica de Y-TZP (YZ Cubes/VITA), os quais serão sinterizados de acordo com as recomendações do fabricante. Os blocos serão aleatoriamente divididos em trinta grupos de acordo com os fatores "tratamento de superfície" (Óxido de silício 30 μm - Cojet/3M ESPE, Zirconia-Metal Primer/lvoclar, Filme de sílica depositado por plasma durante 30 min e Filme de sílica depositado por plasma durante 45 min), "cimento resinoso" (Panavia F/Kuraray, Multilink/lvoclar e RelyX U100/3M ESPE) e "termociclagem" (com e sem) (n=10), sendo: Gr1- Controle negativo/Panavia, Gr2- Controle negativo/Multilink, Gr3- Controle negativo/U 100, Gr4- SiO2/Panavia, Gr5- SiO2/Multilink, Gr6-SiO2/U100, Gr7- Primer/Panavia, Gr8- Primer/Multilink, Gr9- Primer/U100, Gr10- Plasma30/Panavia, GM1- Plasma30/Multilink, Gr12- Plasma30/U100, Gr13- Plasma45/Panavia, Gr14- Plasma45/Multilink, Gr15- Plasma45/U100. Os grupos Gr16 ao Gr30 correspondem respectivamente aos grupos descritos anteriormente submetidos à ciclagem térmica (6.000 ciclos, 5º/55ºC±10C, tempo de imersão: 30 s). Utilizando uma matriz metálica, cilindros (Ø: 3,5 mm; espessura: 2 mm) em cimento resinoso serão confeccionados sobre a superfície da cerâmica após p tratamento de superfície, de acordo com as recomendações dos fabricantes. As amostras serão submetidas ao ensaio de resistência ao cisalhamento em máquina de ensaio universal (EMIC) a uma velocidade de 1 mm/min. Os dados obtidos serão submetidos à análise estatística utilizando a Análise de Variância (3 fatores) e teste de comparação múltipla de Tukey (5%). As superfícies fraturadas serão analisadas em esteréomicroscópio (20X) e MEV (100X, 300X e 500X) e classificadas com relação ao tipo de falha. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

CAVALCANTI QUEIROZ, JOSE RENATO; MASSI, MARCOS; NOGUEIRA, JR., LAFAYETTE; DA SILVA SOBRINHO, ARGEMIRO SOARES; BOTTINO, MARCO ANTONIO; OEZCAN, MUTLU. Silica-based Nano-coating on Zirconia Surfaces Using Reactive Magnetron Sputtering: Effect on Chemical Adhesion of Resin Cements. Journal of Adhesive Dentistry, v. 15, n. 2, p. 151-159, 2013. (09/53584-4)

CAVALCANTI QUEIROZ, JOSE RENATO; NOGUEIRA JUNIOR, LAFAYETTE; MASSI, MARCOS; SILVA, ALECSSANDRO DE MOURA; BOTTINO, MARCO ANTONIO; DA SILVA SOBRINHO, ARGEMIRO SOARES; OEZCAN, MUTLU. Si-based thin film coating on Y-TZP: Influence of deposition parameters on adhesion of resin cement. Applied Surface Science, v. 282, p. 245-252, OCT 1 2013. (09/53584-4)