Elemento óptico difrativo que realiza a modulação complexa completa de uma frente de onda por intermédio de variações nas aberturas de uma camada metálica refletora depositada sobre um substrato óptico de espessura variável

• Processo: 00/10181-2
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa de Apoio à Propriedade Intelectual (PAPI/Nuplitec)
• Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 2000
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2009
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica
• Pesquisador responsável: Luiz Gonçalves Neto
• Beneficiário: Luiz Gonçalves Neto
• Instituição Sede: Escola de Engenharia de São Carlos (EESC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Vinculado à bolsa: 96/11880-4 - Projeto e confecção de elementos ópticos difrativos através de cálculos utilizando-se transformadas rápidas ortogonais, BP.DR
• Assunto(s): Holografia Patentes Óptica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Binary Optics | Diffractive Optics | Digital Holography | Holography

Resumo

Elemento óptico difrativo que realiza a modulação completa de uma frente de onda por intermédio de variações nas aberturas de uma camada metálica refletora depositada sobre um substrato óptico de espessura variável. A inovação deste trabalho está na obtenção da modulação de amplitude, simultânea a modulação de fase, por intermédio de variações nas aberturas de uma camada metálica refletora depositada sobre um substrato óptico de espessura variável. (AU)

Publicações científicas

(4)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

CIRINO‚ GA; MANSANO‚ RD; VERDONCK‚ P.; JASINEVICIUS‚ RG; NETO‚ LG. Diffraction gratings fabricated in DLC thin films. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, v. 204, n. 18, p. 2966-2970, 2010. (08/57858-9, 00/10181-2, 00/11117-6)

CIRINO, GIUSEPPE A.; MONTAGNOLI, ARLINDO N.; VERDONCK, PATRICK; NETO, LUIZ G.; THIENPONT, H; MOHR, J; ZAPPE, H; NAKAJIMA, H. Low f-number microlens array fabricated in thick resist. MICRO-OPTICS 2012, v. 8428, p. 9-pg., 2012-01-01. (00/10181-2, 08/57858-9, 00/11117-6)

CIRINO, GIUSEPPE A.; MANSANO, RONALDO D.; VERDONCK, PATRICK; CESCATO, LUCILA; NETO, LUIZ G.. Diffractive phase-shift lithography photomask operating in proximity printing mode. Optics Express, v. 18, n. 16, p. 16387-16405, AUG 2 2010. (00/11117-6, 08/57858-9, 00/10181-2)

CIRINO, G. A.; MONTAGNOLI, A. N.; NETO, L. G.; PAVANELLO, MA; FREIRE, RCS; NAVINER, JF; BONNAUD, O. Process Modeling and Fabrication of Microlens Array in Thick Photoresist. MICROELECTRONICS TECHNOLOGY AND DEVICES - SBMICRO 2011, v. 39, n. 1, p. 8-pg., 2011-01-01. (00/10181-2, 08/57858-9, 00/11117-6)

Patente(s) depositada(s) como resultado deste projeto de pesquisa