Modified branching ratio method for abolute intensity calibration in VUV spectroscopy

• Processo: 06/00299-2
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Publicações científicas - Artigo
• Data de Início da vigência: 01 de maio de 2006
• Data de Término da vigência: 31 de julho de 2006
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Pesquisador responsável: Munemasa Machida
• Beneficiário: Munemasa Machida
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Física de plasmas Plasma (estados da matéria) Tokamaks Calibração Espectroscopia Publicações de divulgação científica Artigo científico
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Calibracao Absoluta | Densidade Ionica | Plasma | Tokamak | diagnostico de plasmas

Resumo

Um novo método de "branching ratio" modificado (MBR), para calibração da intensidade absoluta de um espectrômetro no ultravioleta no vácuo (VUV), é apresentado. O espectrômetro é equipado com um detetor multicanal, consistindo de uma placa de microcanais (MCP) acoplada a um detetor CCD, ou ainda com uma fotomultiplicadora de canal simples. Esta técnica estende o número de possíveis comprimentos de onda calibrados daqueles fornecidos pela técnica "branching ratio" (BR) de calibração. O método MBR é uma variação do método BR convencional, onde nós relaxamos a condição de que as duas emissões espectrais, nos espectros visível e VUV, venham do mesmo nível excitado, para incluir transições vindas de diferentes subníveis do mesmo nível de energia. Contudo, foi necessário fazer um crítico estudo do equilíbrio estatístico dos subníveis do mesmo nível de energia iônico. Como resultado, nós mais que dobramos o número de comprimentos de onda calibrados para nosso espectrômetro usado para diagnostico de plasma em tokamak. A identificação apropriada de novos pares de linhas espectrais para calibração absoluta aqui apresentados abre oportunidades para futuros trabalhos em outros equipamentos com condições de plasma ou níveis de impurezas similares. (AU)