Diffractive phase-shift lithography photomask operating in proximity printing mode

• Processo: 10/51594-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Publicações científicas - Artigo
• Data de Início da vigência: 01 de setembro de 2010
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2011
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física Geral
• Pesquisador responsável: Giuseppe Antonio Cirino
• Beneficiário: Giuseppe Antonio Cirino
• Instituição Sede: Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil
• Assunto(s): Sistemas microeletromecânicos Litografia Óptica difrativa
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Litografia | Mems | Optica Difrativa | Phase-Shift Photomask | Processos De Microfabricacao