Implementação de um laboratório de processamento de materiais para aplicações em micro-sistemas usando a tecnologia de plasma

• Processo: 00/11058-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de junho de 2001
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2003
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Marcos Massi
• Beneficiário: Marcos Massi
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Tecnologia de plasma Filmes finos de carbono tipo diamante (DLC) Deposição de filmes finos Recursos para a pesquisa Infraestrutura Laboratórios Equipamentos e provisões
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Carbono Tipo Diamante | Corrosao | Deposicao | Mems | Microeletronica | Tecnologia De Plasma

Resumo

O Laboratório de Plasmas e Processos do Instituto Tecnológico de Aeronáutica vem, nos últimos anos, se destacando nacional e internacionalmente na realização de trabalhos relacionados com descargas elétricas e suas aplicações. Com o intuito de criar uma extensão das atividades do laboratório de Plasmas e Processos do ITA, pretende-se, implementar um ambiente de sala limpa neste laboratório, o que permitirá a realização de trabalhos relacionados com materiais aplicáveis em micro-sistemas, usando a tecnologia de plasma. Nesta extensão do Grupo de Plasmas do ITA serão desenvolvidas duas atividades principais. Uma delas será vocacionada á obtenção de novos materiais utilizáveis em micro-dispositivos, enquanto que a outra atividade será relacionada á caracterização mecânica e térmica desses materiais com fins de verificar a viabilidade de sua utilização em micro-sistemas. (AU)