Deposição de filmes de DLC espessos com imersão em plasma aplicando polarização pulsada no substrato entre 0 e 20 kV

• Processo: 10/00117-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Pesquisador Visitante - Internacional
• Data de Início da vigência: 16 de agosto de 2010
• Data de Término da vigência: 27 de agosto de 2010
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
• Beneficiário: Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
• Pesquisador visitante: Ian Brown
• Instituição do Pesquisador Visitante: Pessoa Física - EUA, Estados Unidos
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Superfície física Filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposição por plasma | Dlc | filmes | Deposição de filmes

Resumo

Neste projeto de pesquisa propomos produzir filmes de DLC de alta dureza, sobre silício, implantando carbono em sua superfície para criar uma interface da ordem de 100 nm, conferindo excelente adesão do filme ao substrato. Um aspecto original consiste em estimar previamente a profundidade de implantação iônica e concentração de carbono implantado no substrato através de simulação utilizando o programa TRIDYN. Os filmes serão caracterizados por nanoendentação, microscopia eletrônica de varredura e microscopia de força atômica. O objetivo final será a obtenção de filmes espessos de DLC com boa adesão com o substrato. (AU)