Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions.

• Processo: 95/04988-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 03 de dezembro de 1995
• Data de Término da vigência: 08 de dezembro de 1995
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Marcia Carvalho de Abreu Fantini
• Beneficiário: Marcia Carvalho de Abreu Fantini
• Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Óxido de níquel
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Eletrocromico | Filmes Finos | Oxido De Niquel | Rf-Sputtering