Effect of target bias on magnetic field enhanced plasma immersion ion implantation.

• Processo: 05/01447-2
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 04 de setembro de 2005
• Data de Término da vigência: 17 de setembro de 2005
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física
• Pesquisador responsável: Konstantin Georgiev Kostov
• Beneficiário: Konstantin Georgiev Kostov
• Instituição Sede: Pessoa Física
• Assunto(s): Implantação iônica Simulação numérica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Bainha De Plasma | Confinamento Magnetico | Simulacao Numerica | Implantaçao Ionica